靶材有哪些？靶實(shí)際上是一個(gè)寬泛的概念，靶材的三類劃分方法：1.按外形尺寸可分為圓柱形、長(zhǎng)方形、正方形板靶和管靶;2.按材質(zhì)分靶材可分為常規(guī)金屬靶材，貴金屬靶材，稀土金屬靶材，非金屬靶材，合金濺射靶材，陶瓷濺射靶材等;3.按照應(yīng)用領(lǐng)域可分為半導(dǎo)體用靶材、顯示面板用靶材、太陽(yáng)能電池用靶材、磁記錄用靶材等。
按靶材形狀分類：
常見(jiàn)的靶材多為方靶、圓靶，均為實(shí)心靶材。在鍍膜作業(yè)中，圓環(huán)形的永磁體在靶材的表面產(chǎn)生的磁場(chǎng)為環(huán)形，會(huì)發(fā)生不均勻沖蝕現(xiàn)象，濺射的薄膜厚度均勻性不佳，靶材的使用效率大約只有20%～30%。而目前被推廣的空心管靶可繞固定的條狀磁鐵組件一定周期旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，360°靶面可被均勻刻蝕，優(yōu)勢(shì)明顯，將利用率提高到80%。
按靶材材質(zhì)分類：
常規(guī)金屬靶材：
鋁靶材Al、銅靶材Cu、鉻靶材Cr、鋇靶材Ba、鉍靶材Bi、鎘靶材Cd、鋯靶材Zr、鋅靶材Zn、鎳靶材Ni、鈷靶材Co、鈣靶材Ca、鈮靶材Nb、銦靶材In、鎢靶材W、鉬靶材Mo、釩靶材V、鐵靶材Fe、鈦靶材Ti、鉿靶材Hf、釔靶材Y、鉭靶材Ta、鋰靶材Li、鎂靶材Mg、錫靶材Sn、錳靶材Mn、鉛靶材Pb、硅靶材Si、鋁靶材Al、鈹靶材Be、銅靶材Cu、鈧靶材Sc
貴金屬靶材：
銀靶材Ag、金靶材Au、鉑靶材Pt、鈀靶材Pd、銠靶材Rh、銥靶材Ir、錸靶材Re、釕靶材Ru
稀土金屬靶材：
鑭靶材La、鈰靶材Ce、鐠靶材Pr、釹靶材Nd、釤靶材Sm、銪靶材Eu、釓靶材Gd、鋱靶材Tb、鏑靶材Dy、鈥靶材Ho、鉺靶材Er、銩靶材Tm、鐿靶材Yb、镥靶材Lu
非金屬靶材：
石墨靶材C、硼靶材B、鍺靶材Ge、硒靶材Se、銻靶材Sb、碲靶材Te
合金濺射靶材：
鈦鋁合金靶材TiAl、鈦鎢合金靶材TiW、鎢鎳合金靶材WNi、鎳鉻合金靶材NiCr、鎳鈦合金靶材NiTi、鎳釩合金靶材NiV、鎳鐵合金靶材NiFe、鐵鈷鎳鈮合金靶材FeCoNiNb、鈷鐵硼合金靶材CoFeB、鐵錳合金靶材FeMn、鐵鎵合金靶材FeGa、銅鎵合金靶材CuGa、錳鎵合金靶材MnGa、鎢錸合金靶材WRe、銥錳合金靶材IrMn、銅銦鎵硒合金靶材CIGS、鉬錸合金靶材MoRe、銦錫合金靶材InSn、金錫合金靶材AuSn、金鍺鎳合金靶材AuGeNi、金鍺合金靶材AuGe、鋅鋁合金靶材ZnAl、鋁銅合金靶材AlCu、鋯鈦合金靶材ZrTi、銅鋅錫硫合金靶材CZTS、鈷鈮鋯合金靶材CoNbZr、鈷鉭鋯合金靶材CoTaZr、鋱鈷合金靶材TbCo、鋱鐵鈷合金TbFeCo
按靶材應(yīng)用領(lǐng)域分類：
1、半導(dǎo)體應(yīng)用領(lǐng)域細(xì)分
電極、布線薄膜（鋁靶材，銅靶材，金靶材，銀靶材，鈀靶材，鉑靶材，鋁硅合金靶材，鋁硅銅合金靶材等）；
儲(chǔ)存器電極薄膜（鉬靶材，鎢靶材，鈦靶材等）；粘附薄膜（鎢靶材，鈦靶材等）；電容器絕緣膜薄膜（鋯鈦酸鉛靶材等）。
2、磁記錄應(yīng)用領(lǐng)域細(xì)分
垂直磁記錄薄膜（鈷鉻合金靶材等）； 硬盤用薄膜（鈷鉻鉭合金靶材，鈷鉻鉑合金靶材，鈷鉻鉭鉑合金靶材等）；
薄膜磁頭（鈷鉭鉻合金靶材，鈷鉻鋯合金靶材等）；人工晶體薄膜：（鈷鉑合金靶材，鈷鈀合金靶材等）。
3、光記錄應(yīng)用領(lǐng)域細(xì)分
相變光盤記錄薄膜（硒化碲靶材，硒化銻靶材，鍺銻碲合金靶材，鍺碲合金靶材等）； 磁光盤記錄薄膜（鏑鐵鈷合金靶材，鋱鏑鐵合金靶材，鋱鐵鈷合金靶材，氧化鋁靶材，氧化鎂靶材，氮化硅靶材等）；光盤反射薄膜（鋁靶材，鋁鈦合金靶材，鋁鉻合金靶材，金靶材，金合金靶材等）。光盤保護(hù)薄膜（氮化硅靶材，氧化硅靶材，硫化鋅靶材等）。
4、顯示面板應(yīng)用領(lǐng)域細(xì)分
透明導(dǎo)電薄膜（氧化銦錫靶材，氧化鋅鋁靶材等）；電極布線薄膜（鉬靶材，鎢靶材，鈦靶材，鉭靶材，鉻靶材，鋁靶材，鋁鈦合金靶材，鋁鉭合金靶材等） 電致發(fā)光薄膜（硫化鋅摻錳靶材，硫化鋅摻鋱靶材，硫化鈣摻銪靶材，氧化釔靶材，氧化鉭靶材，鈦酸鋇靶材等）。
5、其他應(yīng)用領(lǐng)域細(xì)分
裝飾薄膜（鈦靶材，鋯靶材，鉻靶材，鈦鋁合金靶材，不銹鋼靶材等）；
低電阻薄膜（鎳鉻合金靶材，鎳鉻硅合金靶材，鎳鉻鋁合金靶材，鎳銅合金靶材等）；超導(dǎo)薄膜（釔鋇銅氧靶材，鉍鍶鈣銅氧靶材等）；
工具鍍薄膜（氮化物靶材，碳化物靶材，硼化物靶材，鉻靶材，鈦靶材，鈦鋁合金靶材，鋯靶材，石墨靶材等）。
